ألونا-80 أكسيد الألومنيوم
HIFULL ALuna-80 هو مسحوق أكسيد الألومنيوم (AL2O3) ذو جسيمات دقيقة ومساحة سطحية عالية. الشحنة السطحية الإيجابية من الألومينا المشبعة تمكنها من إستخدامها في العديد من التطبيقات ذات الخصائص والوظائف الخاصة.
المواصفات( ألونا-80 أكسيد الألومنيوم)
| الخصائص | الوحدة | ALuna-80 | Testing Method |
| مساحة سطحية معينة (BET) | m2/g | 80±15 | GB/T 20020 |
| درجة الحموضة في تشتت %4 | ≥3.9 | GB/T 20020 | |
| فقدان عند التجفيف بمعدل 105℃×2 ساعة | % | ≤2.5 | GB/T 20020 |
| الفقد عند الاشتعال (الفقد عند الاشتعال في الساعة 1000℃×2h) | % | ≤2.0 | GB/T 20020 |
| Al2O3 Conten (استنادا إلى مادة مشتعلة) | mg/kg | ≥98.0 | GB/T 20020 |
| كثافة مضغوطة(@ 105℃×2h) | g/dm3 | 50-80 | GB/T 20020 |
| بنية بلورية | wt.% | بنية بلورية مختلطة | GB/T 20020 |
التطبيق
حول HIFULL
منتجاتنا الرئيسية هي السيليكا SiO2 المشبعة، ثاني أكسيد التيتانيوم المشتعل TiO2، والألومينا المشبعة Al2O3. نحن نحصل على 20 عاما من الخبرة و 20،000 طن من القدرة السنوية. نحن نوفر ما مجموعه 23 درجة من السيليكا المشبعة بالماء والهيدروفوبيا. حصلنا على تسجيل REACH والتسجيل المسبق ل K-REACH و KKDIK. نحن الهيئة الرائدة في إعداد ISO18473-1:2015، ISO18473-3:2018، و ISO 23157:2021. معرفة المزيد
الأسئلة المتكررة
الشركة المصنعة. يجري هوبي هويفو أبحاثا وتصنيع السيليكا المشبعة منذ أكثر من 20 عاما. نحن أكبر مصنع للسيليكا المشبعة بعملية تصنيع متقدمة ومستقرة في الصين.
حصلنا على تسجيل REACH والتسجيل المسبق ل K-REACH و KKDIK. حصلنا على شهادات من ISO 9001، ISO 14001. نحن الهيئة الرائدة في إعداد ISO18473-1:2015 و ISO18473-3:2018 و ISO 23157:2021.
عينة مجانية: جميع درجات عينة السيليكا المشبعة متوفرة، اتصل بنا
بيروهيدرولايسي وتريكلوروميثيلسيلان
يتم تصنيع السيليكا المشبعة عن طريق التحلل الحراري لرابع كلوريد السيليكون أو ثلاثي كلورو ميثيلسيلان في لهب الهيدروجين والأكسجين. المادة الخام الرئيسية لدينا هي رباعي كلوريد السيليكون، والثانوي هو ثلاثي كلورو ميثيل سيلان.
سيليكا SiO2 المشبعة بالماء
HL-150 / HL-200 / HL-300 / HL-380 / HL-150W / HL-200W
سيليكا SiO2 المشبعة بالهيدروكربون
DDS Treated — HB-151/ HB-152 ;
PDMS Treated — HB-139 ;
HMDS Treated — HB-132 / HB-135 / HB-612/ HB-615 / HB-620 / HB-630.
NT-50 :ثاني أكسيد التيتانيوم المشتعل TiO2
Aluna-80 & Aluna-100 :أكسيد الألومنيوم المشتعل Al2O3
يعتمد السعر على الدرجة الفعلية. عندما يتقلب سعر المواد الخام، قد نعدل السعر وفقا لذلك، يرجى الاستفسار قبل تقديم الطلبات.
عند إستخدام السيليكا المشبعة كحشو أو إضافات، فإنها تساعد في التسخين، والتعزيز، والشفافية، والتدفق الحر، وأداء الثاكسوتوتوريك، وخصائص الكهرباء، ومكافحة الاستقرار، والعزل الحراري، ومكافحة الترهل. على سبيل المثال، بالنسبة لمنتجات المساحيق، يتم إستخدام السيليكا المدخن HIFULL كعامل مضاد للتكهف، وبالنسبة للمنتجات السائلة، يتم إستخدام السيليكا المدخن HIFULL كعامل مضاد للتثبيت أو كعامل معلق.
| التطبيقات | دوال | الجرعة الموصى بها |
| الطلاء والطلاء | التحكم في الروتين والمدار الثيائي، ومكافحة الترهل، والتوازن | 0.5-2% |
| UPR، جل كوز | التحكم في الروتين والمدار الثيائي، ومكافحة الترهل، والتوازن | 0.5-2% |
| سيليكون مطاط HTV | تقوية | 15-30% |
| سيليكون مطاط RTV | زيادة سمك المفاصل وتعزيزها | 10-20% |
| تلاصق | التحكم في الروتين والمدار الثيائي، ومكافحة الترهل، والتوازن | 2-10% |
| جيل الكابل | سماكة | 5-10% |
| بطارية الجيل | سماكة | 0.5-6% |
| القوى الصناعية | سماكة | 0.5-1% |
تثبيت الجودة: نحن أوائل مصنعي السيليكا المشغولين مع البحث والتطوير المستقل في الصين، الذي يضمن إستقرار منتجاتنا.
أكبر شركة مصنعة: يبلغ إنتاجنا السنوي من السيليكا المشبعة حوالي 12،000 طن.
فريق بحث وتطوير قوي: إلى جانب معهدنا للبحث والتطوير وقسم التطبيقات والتكنولوجيا، يتعين علينا بناء مركز أبحاث مع جامعة سيشوان وجامعة ووهان، وكلتاهما من أرقى الجامعات في الصين.
السلطة الرائدة: لقد كنا بالفعل الشركة المؤثرة في صناعة السيليكون في الصين. الدكتور وانغ يو لين، المراقب الفعلي لشركة هيفل، هو قائد المشروع الصيني الألماني ISO18473-3 “< Fumed Silica for Silicon Rubber>”، وقد منحته اللجنة جائزة المساهمة المتميزة.
بشكل رئيسي T/T و L/C و D/P، شروط الدفع الفعلية يرجى التحقق من المبيعات عند تقديم الطلبات.
وسنقوم بترتيب التسليم فورا وفقا لجدول وشروط التصنيع. بسبب جدول الشحن أو عوامل أخرى، يرجى مراجعة المبيعات عند تقديم الطلبات.
هل لا تزال لديك أسئلة؟
إذا لم تتمكن من العثور على إجابة لسؤالك في أسئلتنا، يمكنك دائما الاتصال بنا وسنكون معك بعد قليل.